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半導體工業含氟廢水的處理方法

來源:本站

  含氟的工業廢水主要源于鋁的冶煉、磷礦石加工、磷肥生產、鋼鐵冶煉和煤炭等半導體燃燒過程的排放物,氟是積累牲毒物,當含氟廢水的工業廢水排放于自然界時植物和動物受到一定的影響,下面介紹一下關于半導體工業含氟廢水的處理方法具體都有哪些。

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  目前市場上常用的半導體工業含氟廢水處理方法有離子交換、吸附法、膜分離以及沉淀法:

  離子交換:通過陰離子交換樹脂進行離子交換以達到除氟的目的;

  吸附法:吸附需要用到獨特的處理劑和設定特殊機器設備,用羥基磷灰石活性氧化鎂稀土金屬氧化物等新型吸附劑可提升處理實際效果,適用于水流量較小的生活用水深層處理;

  膜分離:是指利用膜的選擇作用,在外界能量的作用下,將污水中的溶質和溶劑分離出來,主要優勢在于效率高、工藝簡單、環保、能耗低;

  沉淀法:當半導體含氟廢水的氟離子原始濃度值在1000~3000mg/L之間時,用石灰粉法處理后的最后濃度值達到20~30mg/L。

  溫馨提示:在處理期間會因為泥渣沉速慢,適當的加入一些氯化鈣或其他絮凝劑時可以加快懸浮物的沉淀速度,同時pH需要維持在一個比較高的高度來減少氟離子濃度值,選用磷酸鹽、鎂鹽、鋁鹽等,比單純性用鈣鹽除氟效果明顯。

  以上是小編整理的關于半導體工業含氟廢水的處理方法,因不同的工業所含成分、水量以及濃度不同,具體方案還需具體分析。

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